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高精纯石墨盘在多个领域具有重要作用,首要体现在以下几个方面:
半导体制作:
    晶体成长:在半导体晶体成长过程中,高精纯石墨盘用于承载晶种和质料,供给耐高温、耐腐蚀的环境,保证晶体在高温下安稳成长。
    外延工艺:在外延成长中,石墨盘作为基座,承载晶片并供给均匀的热场,保证外延层的质量和均匀性。
    离子注入:高精纯石墨盘可用于离子注入设备中,作为部件资料,承受高温和离子束的炮击,保证设备的安稳运行。
第三代半导体资料制备:
    碳化硅(SiC)单晶成长:在SiC单晶成长炉中,石墨盘作为坩埚或籽晶托盘,承受2200℃以上的高温,供给安稳的热场,保证SiC晶体的质量。
    氮化镓(GaN)外延成长:石墨盘作为GaN薄膜外延成长的承载基座,具有高耐热、热传导率均匀、化学安稳性杰出的特色,满足外延成长的工艺要求。
高温热处理:
    金属热处理:在有色金属职业,高精纯石墨盘用于金属液体的制作和处理,供给耐高温、抗氧化的性能,保证金属液体的纯净度和工艺质量。
    粉末冶金:在粉末冶金烧结过程中,石墨盘承载粉末并均匀加热,防止烧结体密度不均或开裂,进步产品质量。
等离子蚀刻设备:
    部件资料:石墨盘在等离子蚀刻设备中作为基座资料,利用其耐高温、导电导热性好、化学安稳性高的特性,为等离子蚀刻供给安稳的工作环境,反抗化学侵蚀,坚持基座的安稳性。
柔性电子与热办理:
    柔性石墨箔使用:高精纯石墨盘的相关资料(如柔性石墨箔)可用于半导体生产设备中的保温筒、隔热资料、柔性层、密封资料等,进步体系和工艺的性能,下降能耗。
    热传导资料:石墨盘的高热导率使其成为半导体设备中的理想热传导资料,可以有用办理设备温度,进步设备的安稳性和寿数。

高精纯石墨盘